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EUV光刻威廉希尔官方网站 - 即将在芯片上绘制微小特征的下一代威廉希尔官方网站 – 原来是预计在2012年左右投产。但是几年过去了，EUV已经遇到了一些延迟，将威廉希尔官方网站从一个节点推向下一个阶段，本单元详细介绍了EUV光刻机，EUV光刻机威廉希尔官方网站的威廉希尔官方网站应用，EUV光刻机的威廉希尔官方网站、市场问题，国产euv光刻机发展等内容。

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euv简介

　　光刻机（Mask Aligner）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.

　　一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。

　　Photolithography（光刻）意思是用光来制作一个图形（工艺）；

　　在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

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