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EUV 光是指用于微芯片光刻的极紫外光,涉及在微芯片晶圆上涂上感光材料并小心地将其曝光。这会将图案打印到晶圆上,用于微芯片设计过程中的后续步骤。
ASML向中国台湾增资1.4亿欧元获批,从事晶圆测量设备等代工生产
asml计划投资300亿台币,在新北市林口宫产业专用园区设立工厂。台湾经济部计划向该项目提供2.85亿台币(约2900亿韩元)的补助金,该工厂将主要把重...
纳米压印威廉希尔官方网站 ,即Nanoimprint Lithography(NIL),是一种新型的微纳加工威廉希尔官方网站 。该威廉希尔官方网站 将设计并制作在模板上的微小图形,通过压印等威廉希尔官方网站 ...
Advantes和 Teradyne最知名的是自动化测试设备。许多其他事情中,ATE工具取出探针卡,将它们与晶圆上的芯片完美对齐,并与晶圆上的电路进行物...
节点的尺寸数值基本上和晶体管的长宽成正比关系,每一个节点基本上是前一个节点的0.7倍。这样以来,由于0.7X0.7=0.49,所以每一代工艺节点上晶体管...
ASML 称之为超数值孔径的研发正在进行中,因此更具体的光学器件,尚不清楚它是否会起作用。距生产还有 10 年的时间,但这正是研发已经在进行的地方,如果...
ASML创下新的EUV芯片制造密度记录,提出Hyper-NA的激进方案
ASML在imec的ITF World 2024大会上宣布,其首台High-NA(高数值孔径)设备已经打破了之前创下的记录,再次刷新了芯片制造密度的标准。
台积电魏哲家与ASML高层会面,是否有意购买高数值孔径极紫外光机台?
此前,该公司首席执行官魏哲家曾明确表示,过早引入High-NA EUV并无太大经济效益,直到日前其秘密访问ASML总部,使市场猜测台积电是否因此事发生重大转变。
宿敌英特尔则积极投身于新兴高数值孔径超紫外光刻领域,已有数台设备投入其芯片制造部门使用。据透露,英特尔正计划在即将推出的18A(1.8纳米)工艺节点中试...
2024-05-28 标签:英特尔台积电光刻威廉希尔官方网站 403 0
Rapidus对首代工艺中0.33NA EUV解决方案表示满意,未采用高NA EUV光刻机
在全球四大先进制程代工巨头(包括台积电、三星电子、英特尔以及Rapidus)中,只有英特尔明确表示将使用High NA EUV光刻机进行大规模生产。
来源:国芯网,谢谢 编辑:感知芯视界 Link 5月22日消息,据外媒报道,台积电从ASML购买的EUV极紫外光刻机,暗藏后门,可以在必要的时候执行远程...
ASML联手荷兰埃因霍温理工大学投入1.8亿欧元研发半导体威廉希尔官方网站
自成立以来,ASML一直在寻求新的发展机会,并不断审视荷兰埃因霍温总部的人才资源及基础设施是否能满足其扩张需求。因此,ASML与埃因霍温理工大学的合作不...
范登布林克指出,更高的数值孔径能提高光刻分辨率。他进一步解释说,Hyper NA 光刻机将简化先进制程生产流程,避免因使用 High NA 光刻机进行双...
阿斯麦称可远程瘫痪台积电光刻机 据彭博社爆料称,有美国官员就大陆攻台的后果私下向荷兰和中国台湾官员表达担忧。对此,光刻机制造商阿斯麦(ASML)向荷兰官...
欧洲芯片行业应强化研究与关键设备制造,避免过度追求尖端芯片制造
他进一步指出,全球最大设备制造商ASML的成功离不开德国光学及imec的研究贡献。此外,欧洲还拥有诸如ASM International等小型却重要的设备企业。
台积电张晓强:ASML High-NA EUV成本效益是关键
据今年2月份报道,荷兰半导体制造设备巨头ASML公布了High-NA Twinscan EXE光刻机的售价,高达3.5亿欧元(约合27.16亿元人民币)...
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